logo

혁신적인 기술로
새로운 가치를 창출합니다.

  • Pre-deposition cleaner

    CVD, PVD와 함께 증착 공정 前 고성능 세정 기술이 적용되며 효율적인 공간 활용과 수율 향상에 기여

    Features

    • Small Footprint (Compact Size)
    • Yield Enhancement
    • Simple Design
    • Being Usable for 11th Generation
    • High Performance Modules (DB, RB, MJ, SM-JET, WMSC, OSC SWR, AK, DMS-JET)

    Application

    • a-Si TFT Process
    • Oxide TFT Process
    • LTPS Process
    • OLED Process
    • CF Process
    • CELL Process

  • Pre-photo cleaner

    유기물 및 수분을 고성능 기술로 완벽하게 제거하여 PR의 균일한 도포와 Coating 불량을 없애기 위한 장비

    Features

    • Small Footprint (Compact Size)
    • Yield Enhancement
    • Simple Design
    • Being Usable for 11th Generation
    • High Performance Modules (DB, RB, MJ, SM-JET, WMSC, OSC SWR, AK, DMS-JET)

    Application

    • a-Si TFT Process
    • Oxide TFT Process
    • LTPS Process
    • OLED Process
    • CF Process
    • CELL Process

  • HF Cleaner

    LTPS 제작 공정에서 증착 공정과 결정화 공정 前 유기 이물과 금속 산화막을 제거하기 위해 세정 기술이 적용 됨

    Features

    • Small Footprint (Compact Size)
    • Yield Enhancement
    • Simple Design
    • Being Usable for 11th Generation
    • High Performance Modules (DB, RB, MJ, SM-JET, WMSC, OSC SWR, AK, DMS-JET)

    Application

    • a-Si TFT Process
    • Oxide TFT Process
    • LTPS Process
    • OLED Process
    • CF Process
    • CELL Process

  • Initial Cleaner

    Panel 제조의 첫 번째 공정에 필요한 장비로써 가장 초기에 투입되는 오염된 기판을 강력하고 향상된 기술을 이용하여 세정함

    Features

    • Small Footprint (Compact Size)
    • Yield Enhancement
    • Simple Design
    • Being Usable for 11th Generation
    • High Performance Modules (DB, RB, MJ, SM-JET, WMSC, OSC SWR, AK, DMS-JET)

    Application

    • a-Si TFT Process
    • Oxide TFT Process
    • LTPS Process
    • OLED Process
    • CF Process
    • CELL Process

  • Wet Stripper

    Pattern 식각(Etching) 後 남아있는 PR(Photo Resist)을 박리하기 위한 장비로, Chemical 회수 능력을 강화하고 전력 소모량을 절감하여 생산 효율 향상에 기여

    Features

    • Small Footprint (Compact Size)
    • Simple Design
    • Being Usable for 11th Generation
    • High Performance Modules (DB, RB, MJ, SM-JET, WMSC, OSC SWR, AK,DMS-JET)
    • HPS를 통한 전력 Energy 절감
    • 효과적인 Chemical 회수 장치를 통한 소모량 감소

    Application

    • a-Si TFT Process
    • Oxide TFT Process
    • LTPS Process
    • OLED Process
    • CF Process
    • CELL Process

  • Wet Etcher

    Pattern 형성 과정에서 금속 박막을 균일하게 식각(Etching)하는 장비로, 안정적인 Uniformity 확보와 Chemical 회수 능력을 강화하여 생산 효율 향상에 기여

    Features

    • Small Footprint (Compact Size)
    • Yield Enhancement
    • Simple Design
    • Being Usable for 11th Generation
    • High Performance Modules (DB, RB, MJ, SM-JET, WMSC, OSC SWR, AK, DMS-JET)

    Application

    • a-Si TFT Process
    • Oxide TFT Process
    • LTPS Process
    • OLED Process
    • CF Process
    • CELL Process

  • Developer

    Pattern 형성 과정에서 노광(Exposure)된 PR(Photo Resist)을 현상하는 장비로, 균일한 Chemical Dispense와 반송 평탄화를 통해 Process 안정화 구현

    Features

    • Small Footprint (Compact Size)
    • Yield Enhancement
    • Simple Design
    • Being Usable for 11th Generation
    • High Performance Modules (DB, RB, MJ, SM-JET, WMSC, OSC SWR, AK, DMS-JET)

    Application

    • a-Si TFT Process
    • Oxide TFT Process
    • LTPS Process
    • OLED Process
    • CF Process
    • CELL Process

  • PI Coater

    Flexible OLED 제조에서 TFT 기판으로 사용할 수 있는 PI(Polyimide)를 단단한 Glass 위에 균일하게 코팅하는 장비

    Features

    • Outstanding Productivity
      • 우수한 코팅 및 온도 균일성, Quick Tack Time
      • 고정도용 탈포 & Filtering System
    • Particle Reduction Configuration
      • Coater : Pump, Cleaning unit, Pipe, etc.
      • HVCD : Heater, Chamber Design, Exhaust, etc.
    • Optimized Design By Condition Of Customer
      • Nozzle Chamber Design, etc.

    Application

    • a-Si TFT Process
    • Oxide TFT Process
    • LTPS Process
    • OLED Process
    • CF Process
    • CELL Process