제품소개반도체장비

반도체장비

건식 식각 장비는 반도체 웨이퍼 위에 있는 미세 회로(패턴) 가운데 불필요한 절연막 부분을 플라즈마를 이용해 제거하는 장비입니다.
특징
Etch Rate Non-Uniformity : Minimum 1% : 99% 이상의 식각 균일도를 유지합니다.
Excellent CD Control : Under 2nm
타사 장비 대비 운영비용 절감
Fastest Recovery Time